脫氧脫氫提純設備Ⅰ

本技術適用于氮氣、一氧化碳、二氧化碳、惰性氣體（氬、氦、氪、氙、氖氣等）、乙烯等氣體中除氧以獲取高純氣

配置功能

常規(guī)配置功能

可編程序控制器自動化控制

氮氣純度、流量在線監(jiān)測

冷干機、過濾器自動排污

可選配置功能

備用氮氣自動補充、自動切換

人機界面控制系統(tǒng)

故障報警、自動關閉加氫電磁閥

全自動開停機

技術指標

額定處理量：10-500Nm3/h

工作溫度：300℃

脫氫深度：≤1ppm

原料氣氧含量：≤1000ppm

脫氧深度：≤1ppm

常壓露點 ：≤-60℃(其他露點請咨詢)

原理

利用催化劑中的金屬低價氧化物與雜質氧在加熱條件下直接發(fā)生氧化反應生成金屬高價氧化物，從而將雜質氧除去。再在加熱條件下通入氫氣與產品混合氣，金屬高價氧化物與氫氣發(fā)生還原反應生成金屬低價氧化物，從而使催化劑再次具有與雜質氧發(fā)生氧化反應的性能，進而采用干燥再進行除水。